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液體導電膠主要由樹脂基體、導電粒子和分散添加劑、助劑等組成。目前市場上使用的導電膠大都是填料型。導電膠要求導電粒子本身要有良好的導電性能粒徑要在合適的范圍內(nèi)，能夠添加到導電膠基體中形成導電通路。導電填料可以是金、銀、銅、鋁、鋅、鐵、鎳的粉末和石墨及一些導電化合物。對于導電膠的選擇依據(jù)我們主要看這幾點：1.屏蔽效能各種需要進行導電膠點膠加工的產(chǎn)品的不同的性能，就需要考慮到導電膠的技術參數(shù)。2.導電膠固化后的硬度構件在裝配后，導電膠在高度方向上需要有30%-50%的壓縮，才能達到...

真空鍍膜儀是一款多功能型真空鍍膜系統(tǒng)設備，用于制備超薄、細顆粒的導電金屬膜和碳膜，以適用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的鍍膜要求。全自動臺式鍍膜儀包含內(nèi)置式無油真空系統(tǒng)石英膜厚監(jiān)控系統(tǒng)和馬達驅(qū)動樣品臺。真空鍍膜儀的濺鍍一般是指磁控濺鍍，歸于高速低溫濺鍍法。該技能請求真空度在1×10-3Torr擺布，即1.3×10-3Pa的真空狀況充入慵懶氣體氬氣(Ar)，并在塑膠基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電，因為輝光放電發(fā)生的電子激起慵懶氣體，發(fā)生等離子體，等離...

離子切割儀可以靈活選擇多種樣品臺，不僅適用于高通量實驗，也適合于特定制樣需求實驗室。離子切割配合不同的工作氣體可以切割各種氧氣切割難以切割的金屬，尤其是對于有色金屬（不銹鋼、鋁、銅、鈦、鎳）切割效果更佳。其主要優(yōu)點在于切割厚度不大的金屬的時候，離子切割速度快，尤其在切割普通碳素鋼薄板時，速度可達氧切割法的5-6倍、切割面光潔、熱變形小、較少的熱影響區(qū)。離子切割的主要切割規(guī)范簡述如下：1.空載電壓和弧柱電壓離子切割電源必須具有足夠高的空載電壓，才能容易引弧和使離子弧穩(wěn)定燃燒?？?..

掃描電鏡樣品臺可直接利用樣品表面材料的物質(zhì)性能進行微觀成像，掃描電鏡有較高的放大倍數(shù)且連續(xù)可調(diào)，是當今十分有用的科學研究儀器。對于它試驗的樣品來說有哪些要求呢？1.形態(tài)必須耐高真空如有些含水量很大的細胞，在真空中很快被抽干水分，細胞的形態(tài)也發(fā)生了改變，無法對各類型細胞進行區(qū)分。2.樣品表面不能含有有機油脂類污染物油污在電子束作用下易分解成碳氫化物，對真空環(huán)境造成極大污染。樣品表面細節(jié)被碳氫化合物遮蓋；碳氫化合物降低了成像信號產(chǎn)量；碳氫化合物吸附在電子束光路引起極大象散；碳氫化...

鍍膜儀是目前鍍膜行業(yè)應用廣泛的真空設備，隨著行業(yè)的發(fā)展，各種類型的鍍膜儀也在逐漸出現(xiàn)。但大部分人并不了解鍍膜儀的工作原理。鍍膜儀主要是由真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成。真空設備也分好多類型和型號，種類、用途不一樣，其型號也就不一樣，但它們的工作原理是相通和類似的。鍍膜儀的基本技術要求說明：1.設備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結(jié)構形式，應符合GB/T的規(guī)定。2.在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規(guī)管，分別測量各部位的真空度。當發(fā)現(xiàn)電...

離子研磨設備是一種用于材料科學領域的儀器，可用于SEM、EPMA和SAM的樣品制備，它可以制備軟的、硬的和復合材料的樣品，損傷、污染和變形可以控制得非常小。依靠離子束轟擊制備樣品剖面，觀察范圍大、清潔而且適用于幾乎所有材料。離子研磨設備可一步制備出鏡面樣品。它幾乎可以適用于各種材料，包括難以拋光的軟材料，如銅、鋁、金、焊料和聚合物等；以及難以切割的材料，如陶瓷和玻璃等。配套的高級CCD顯微鏡，可以準確地把樣品定位在幾個微米大小的剖面位置上。制備過程中，自動控制樣品搖擺，以避免...

真空鍍膜儀通過連續(xù)監(jiān)控在線生產(chǎn)來保證鍍膜產(chǎn)品的優(yōu)良性，提高車間生產(chǎn)線上的工作效率。鍍膜儀的種類多樣主要分為：蒸發(fā)真空鍍膜設備系列、離子真空鍍膜儀系列、磁控濺射真空鍍膜設備。由于真空鍍膜儀的應用非常的廣泛，目前已經(jīng)滲透到車輛、土木建筑工程、機械、包裝、環(huán)境保護、醫(yī)藥及醫(yī)療器械、石油、化工、食品、光學、電氣、電子、原子能、半導體、航空航天、低溫、專用機械、紡織、造紙、農(nóng)業(yè)以及民用工業(yè)等工業(yè)部門和科學研究工作中。真空鍍膜儀的應用是很復雜的，用戶需求掌握必定的操作常識，我們來一起學習...